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yswyx

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10楼: Originally posted by 木星人士 at 2014-12-03 22:14:49
在Si衬底上先涂S1805（或AR P3170）光刻胶，烘干，厚660nm；后涂负胶PGMI ,烘干，测两层胶总厚度，只有80nm. 怀疑PGMI 的溶剂能溶解S1805光刻胶。不知实验怎么办

另外考虑引入翻转工艺，先在Si衬底蒸镀Au ...

环戊酮是强溶剂，忽略了。
在S1805上面，你除非涂一层乙醇之类弱溶剂的polymer，否则强溶剂都溶解胶。
要想不溶解，还可以试试PE-ALD，做S1805表面做一层纳米级的Al2O3，然后再涂另一层胶，做个隔绝。甚至sputter几个纳米的金属，也能起到隔绝的作用，对透光影响不大。

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11楼2014-12-04 18:46:24

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木星人士

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引用回帖:

11楼: Originally posted by yswyx at 2014-12-04 18:46:24
环戊酮是强溶剂，忽略了。
在S1805上面，你除非涂一层乙醇之类弱溶剂的polymer，否则强溶剂都溶解胶。
要想不溶解，还可以试试PE-ALD，做S1805表面做一层纳米级的Al2O3，然后再涂另一层胶，做个隔绝。甚至sputte ...

谢谢，我还是尝试翻转工艺（我这边有员工做过翻转），如上一条回复你的消息中所述。

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12楼2014-12-05 11:17:03

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