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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 微米和纳米 » 微纳加工 » 有熟悉S1813光刻胶的虫友吗？这个胶做RIE刻蚀的掩模可以吗？
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wj0702114081

金虫 (正式写手)

学神的奴隶

[求助] 有熟悉S1813光刻胶的虫友吗？这个胶做RIE刻蚀的掩模可以吗？ 已有2人参与

最近要做一些结构，目前实验室只有S1813，我想做RIE刻蚀，请问刻蚀1个小时的话，用S1813做掩模可以抗得住吗？
如果时间更长一些呢？
现在还没做，RIE是在外边找人做，也不是很懂RIE。掩模我们自己做，希望熟悉这方面的虫友给些建议。

另外我看到S1813的说明书上，3000RPM的厚度是1.5微米左右，1000RPM的厚度是3微米左右。
我的样品是1cmX5mm的小样品，我用1000RPM转30s发现样品边缘积胶很严重。
那么我如果3000RPM转30s然后再3000RPM转30s的话，是不是厚度也在3微米左右？
我实验试了很多次3000RPM转30s涂两次，边缘积胶现象比1000RPM的时候要好很多很多，但是就是厚度现在心里没谱。

再另外，3000RPM转30s和60s有区别吗？匀胶时间主要影响什么？
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Running is often just a way for a mediocre player to cover up the fact that he can't really play.
1楼 2014-11-20 22:23:51
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exciting73

金虫 (著名写手)

【答案】应助回帖

★ ★ ★ ★
wj0702114081: 金币+4, ★★★很有帮助, 嗯，我后来又问了一下对方，可能只刻蚀几分钟就可以了，所以胶厚2到3微米就可以。我这么甩胶能做到2微米以上吗？ 2014-11-24 15:48:31
引用回帖:
3楼: Originally posted by wj0702114081 at 2014-11-21 19:39:48
额，我是刻蚀铌酸锂晶体，我看别人的文章里面刻蚀大概速度是30nm/min。
我的样品大概要刻蚀700nm左右，我说一个小时也是打个比方，其实是说刻蚀时间较长，我不是很了解RIE，外行嘛所以就这么问了。

我的胶似， ...

用Ar/SF6混合气体吗？
一般正胶这么长时间干刻可能去胶比较麻烦。
你说的涂胶方式不会做到3 um的。第一次涂完之后烘一下，然后再涂第二层，这样可以做到接近3 um。
你可以确认下s1813的刻蚀选择比来确定需要多厚的胶。
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4楼2014-11-24 12:10:05
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yswyx

专家顾问 (著名写手)

【答案】应助回帖

感谢参与，应助指数 +1
你要刻什么需要RIE刻一个钟头？？！！！谁家的RIE允许你这么糟蹋？？？你要刻什么，刻多深，怎么刻都不说，别人怎么知道抗不抗的住？
什么叫3000rpm转30s，然后再3000rpm转30s？片子在上面不动，转两个30s？还是片子取下来前烘，然后重新涂胶30s？
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2楼2014-11-21 12:30:50
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wj0702114081

金虫 (正式写手)

学神的奴隶
引用回帖:
2楼: Originally posted by yswyx at 2014-11-21 12:30:50
你要刻什么需要RIE刻一个钟头？？！！！谁家的RIE允许你这么糟蹋？？？你要刻什么，刻多深，怎么刻都不说，别人怎么知道抗不抗的住？
什么叫3000rpm转30s，然后再3000rpm转30s？片子在上面不动，转两个30s？还是片 ...

额，我是刻蚀铌酸锂晶体，我看别人的文章里面刻蚀大概速度是30nm/min。
我的样品大概要刻蚀700nm左右，我说一个小时也是打个比方，其实是说刻蚀时间较长，我不是很了解RIE，外行嘛所以就这么问了。

我的胶似，先涂胶然后匀胶机3000rpm转30s，片子不动，再滴胶然后匀胶机3000rpm转30s。
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3楼2014-11-21 19:39:48
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yswyx

专家顾问 (著名写手)

【答案】应助回帖

★ ★ ★ ★ ★ ★
wj0702114081: 金币+6, ★★★★★最佳答案, 好多，我这里有静静一yi的联系方式，有需要会跟她联系的。谢谢了。 2014-11-24 15:51:08
引用回帖:
3楼: Originally posted by wj0702114081 at 2014-11-21 19:39:48
额，我是刻蚀铌酸锂晶体，我看别人的文章里面刻蚀大概速度是30nm/min。
我的样品大概要刻蚀700nm左右，我说一个小时也是打个比方，其实是说刻蚀时间较长，我不是很了解RIE，外行嘛所以就这么问了。

我的胶似， ...

按照你的涂胶方式，做出来的还是1813的标称厚度。
想要多层涂敷做厚胶，一定要涂完一遍后先烘烤，然后再去涂第二遍。但是强烈不建议这样做，多次涂敷往往不能达到好效果。还是直接去买你需要厚度的光刻胶比较好。
我的建议是，先问给你做RIE的单位，他们用什么光刻胶做掩蔽层来刻蚀铌酸锂，选择比是多少？按照你的刻蚀深度计算出需要的厚度，然后你也去买相同或者类似的光刻胶，再做你的光刻。买胶可以从苏州锐材买小包的，省一点。
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5楼2014-11-24 13:46:55
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wj0702114081

金虫 (正式写手)

学神的奴隶
引用回帖:
4楼: Originally posted by exciting73 at 2014-11-24 12:10:05
用Ar/SF6混合气体吗？
一般正胶这么长时间干刻可能去胶比较麻烦。
你说的涂胶方式不会做到3 um的。第一次涂完之后烘一下，然后再涂第二层，这样可以做到接近3 um。
你可以确认下s1813的刻蚀选择比来确定需要多厚 ...

嗯，我后来又问了一下对方，可能只刻蚀几分钟就可以了，所以胶厚2到3微米就可以。我这么甩胶能做到2微米以上吗？
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6楼2014-11-24 15:51:32
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exciting73

金虫 (著名写手)
引用回帖:
6楼: Originally posted by wj0702114081 at 2014-11-24 15:51:32
嗯，我后来又问了一下对方，可能只刻蚀几分钟就可以了，所以胶厚2到3微米就可以。我这么甩胶能做到2微米以上吗？...

可以做到2 um以上，应该是2000rpm左右可以直接一次做到2 um。再低一点的转速就可以做更厚一点
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7楼2014-11-27 22:03:26
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wj0702114081

金虫 (正式写手)

学神的奴隶
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7楼: Originally posted by exciting73 at 2014-11-27 22:03:26
可以做到2 um以上，应该是2000rpm左右可以直接一次做到2 um。再低一点的转速就可以做更厚一点...

嗯，这个我试了，但是我的片子太小，是1cm乘以5mm的，在低转速的时候，片子的边缘积胶很严重，50的面积基本上都是残胶，我没法做光刻了。所以迫不得己只能用3000转甩两次的办法。
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8楼2014-11-27 22:42:57
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exciting73

金虫 (著名写手)
引用回帖:
8楼: Originally posted by wj0702114081 at 2014-11-27 22:42:57
嗯，这个我试了，但是我的片子太小，是1cm乘以5mm的，在低转速的时候，片子的边缘积胶很严重，50的面积基本上都是残胶，我没法做光刻了。所以迫不得己只能用3000转甩两次的办法。...

哦，是方片啊，那有点麻烦。边缘比较难处理
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9楼2014-11-28 19:45:21
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飞羽MVB

金虫 (小有名气)
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10楼2017-05-19 09:40:38
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