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TiO2/FTO 光电化学行为
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shucaijing
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TiO2/FTO 光电化学行为
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我通过水热合成的方法 在FTO玻璃上合成了TiO2 阵列,在不同波长的激光照射下 测得I-V 曲线,我发现 TiO2 在小于532nm的激光下发生 I-V曲线 的变化 这是为什么?找不到相应的文献说明 请大家帮忙给个解释 谢谢!
图片3.jpg
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1楼
2014-09-24 14:25:28
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【答案】应助回帖
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5楼
:
Originally posted by
shucaijing
at 2014-09-24 19:22:11
TiO2的带隙为3.1eV 远大于2.3 eV 应与 FTO有关系...
你说的这个3.1 eV是你测出来的,还是书上说的?
FTO作为导体,应该不太可能。
这个也很好证明,你用白白的FTO先用激光照一次,看看有没有这种变化。
然后么,你再试试测测你的TiO2的bandgap,一般来说薄膜的bandgap会随着你的生长方法改变。不一定是书上说的那个值。
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哈哈哈哈,来吧
7楼
2014-09-25 10:59:19
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qingdacuihua
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扫描范围也太宽了吧,-1~1V就差不多
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2楼
2014-09-24 15:18:07
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2楼
:
Originally posted by
qingdacuihua
at 2014-09-24 15:18:07
扫描范围也太宽了吧,-1~1V就差不多
谢谢您的建议 为什么-0.3eV 出现了一个负峰,是什么缘故啊? 532nm 的光就使其发生变化?
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Comeon,Baby!!!
3楼
2014-09-24 17:08:31
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【答案】应助回帖
感谢参与,应助指数 +1
跟bandgap有关系,看一下532nm光的能量大概是2.3eV,那就是说明你的TiO2的bandgap至少是在2.3eV,有可能更小,但是不可能更大。因为785nm的光的能量是1.6 eV,那你的bandgap至少要比1.6大,但是具体是多少就不知道了。
至于0.3eV的那个拐点,应该是光造成的,一些结构上的变化,建议你列出来你的结构参数,比如多厚之类的,不需要太具体,大概的值就好了。
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4楼
2014-09-25 05:39:15
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