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磁控溅射过程中，Ar气流速对镀膜有什么影响？ 已有7人参与
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最近实验，一直不知道Ar的流速到底应该怎么控制，是应该多还是应该少？ Ar流速高，真空腔内的Ar分子相对较多，在维持压强不变的情况下，靶材的分子就会相对偏少，不利于膜的形成 Ar流速低，虽然靶材的分子较多，但对起辉和电离影响大 不知道这样理解对不对？有没有相关文献讨论流速问题 求解答 |
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