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射频磁控溅射二氧化硅问题
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bianlan
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射频磁控溅射二氧化硅问题
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我用射频磁控溅射镀二氧化硅薄膜,能起辉,功率约160w,溅射2小时,拿出来感觉没镀上,颜色上没有任何差异?求问是什么原因.若镀上二氧化硅是什么颜色?辉光应该是什么颜色?
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1楼
2014-07-23 14:24:44
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专业: 凝聚态物性 II :电子结构
虽然是个坟……但是我和楼主的情况一样。蓝宝石沉底,二氧化硅靶材,氩气流量8sccm,120w,十分钟。镀完后拿出来感觉就没任何变化……楼主后来解决了吗?
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5楼
2017-01-05 14:55:10
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专业: 半导体材料
最近刚准备做绝缘膜,希望能交流一下
好像绝缘膜的功率要求比较高
不知道你的各项参数怎么设定的,压强,通气速率,功率都是多少
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2楼
2014-07-29 15:46:33
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bianlan
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2楼
:
Originally posted by
huanyingmofa
at 2014-07-29 15:46:33
最近刚准备做绝缘膜,希望能交流一下
好像绝缘膜的功率要求比较高
不知道你的各项参数怎么设定的,压强,通气速率,功率都是多少
我刚开始使用这个设备,第一次用,没什么经验,设定的压强为0.5Pa,通氩气,流量为37.7,单位吧,应该是L/min吧?(不确定),功率为160W左右。也希望你能提供一些经验哈。
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3楼
2014-07-30 08:40:04
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huanyingmofa
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专业: 半导体材料
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3楼
:
Originally posted by
bianlan
at 2014-07-30 08:40:04
我刚开始使用这个设备,第一次用,没什么经验,设定的压强为0.5Pa,通氩气,流量为37.7,单位吧,应该是L/min吧?(不确定),功率为160W左右。也希望你能提供一些经验哈。...
氩气的流量应该是sccm,mL/min
我的参数和你差不多,150W,起辉压强4Pa,起辉后0.4Pa,流速7sccm
但是因为怕靶材受热裂开,每次只敢做10分钟,然后停10分钟,再做
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4楼
2014-07-31 16:19:40
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