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关于氧化铝表面羟基的表征
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strawnese
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关于氧化铝表面羟基的表征
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小弟我准备用原位红外表征氧化铝表面的羟基,400度真空处理2小时,我想指导背景应该怎么选呢?是不是应该先在装样品前扫描一个常温的空背景,然后放入样品升温后再扫描样品,差谱后就得到样品的表面羟基谱图?各位请给小的指导一下,谢谢了。
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2014-06-20 10:51:18
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【答案】应助回帖
★ ★
liwentao2010: 金币+2, 谢谢回帖,辛苦
2015-01-30 17:09:54
不加样品,400度真空两小时,和加入样品时的条件一样,以这个为背景测试样品的表面情况,应该可以看到羟基。
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6楼
2015-01-30 14:03:18
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guoxg701
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【答案】应助回帖
感谢参与,应助指数 +1
先在200度下(最好查一下文献,氧化铝吸附水脱除温度),惰气吹扫1小时或真空处理,脱去表面吸附水,分析作为指导背景,然后在进行上述操作。
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绳锯木断,水滴石穿
2楼
2014-06-20 11:12:54
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strawnese
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2楼
:
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guoxg701
at 2014-06-20 11:12:54
先在200度下(最好查一下文献,氧化铝吸附水脱除温度),惰气吹扫1小时或真空处理,脱去表面吸附水,分析作为指导背景,然后在进行上述操作。
专家你好,你的意思是就用氧化铝在200度时脱水后作为背景,然后再升高温度,比如400度下测定此温度时氧化铝的表面羟基吗?
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3楼
2014-06-23 14:35:28
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3楼
:
Originally posted by
strawnese
at 2014-06-23 14:35:28
专家你好,你的意思是就用氧化铝在200度时脱水后作为背景,然后再升高温度,比如400度下测定此温度时氧化铝的表面羟基吗?...
是的
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绳锯木断,水滴石穿
4楼
2014-06-23 14:58:57
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