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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 化学化工区 » 催化 » 表征 » 关于氧化铝表面羟基的表征
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strawnese

金虫 (正式写手)

[求助] 关于氧化铝表面羟基的表征 已有3人参与

小弟我准备用原位红外表征氧化铝表面的羟基，400度真空处理2小时，我想指导背景应该怎么选呢？是不是应该先在装样品前扫描一个常温的空背景，然后放入样品升温后再扫描样品，差谱后就得到样品的表面羟基谱图？各位请给小的指导一下，谢谢了。
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1楼 2014-06-20 10:51:18
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strawnese

金虫 (正式写手)
引用回帖:
4楼: Originally posted by guoxg701 at 2014-06-23 14:58:57
是的...

谢谢
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5楼2014-06-23 15:50:13
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guoxg701

荣誉版主 (职业作家)

【答案】应助回帖

感谢参与，应助指数 +1
先在200度下（最好查一下文献，氧化铝吸附水脱除温度），惰气吹扫1小时或真空处理，脱去表面吸附水，分析作为指导背景，然后在进行上述操作。
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绳锯木断，水滴石穿
2楼2014-06-20 11:12:54
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strawnese

金虫 (正式写手)
引用回帖:
2楼: Originally posted by guoxg701 at 2014-06-20 11:12:54
先在200度下（最好查一下文献，氧化铝吸附水脱除温度），惰气吹扫1小时或真空处理，脱去表面吸附水，分析作为指导背景，然后在进行上述操作。

专家你好，你的意思是就用氧化铝在200度时脱水后作为背景，然后再升高温度，比如400度下测定此温度时氧化铝的表面羟基吗？
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3楼2014-06-23 14:35:28
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guoxg701

荣誉版主 (职业作家)
引用回帖:
3楼: Originally posted by strawnese at 2014-06-23 14:35:28
专家你好，你的意思是就用氧化铝在200度时脱水后作为背景，然后再升高温度，比如400度下测定此温度时氧化铝的表面羟基吗？...

是的
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绳锯木断，水滴石穿
4楼2014-06-23 14:58:57
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