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strawnese

金虫 (正式写手)


[求助] 关于氧化铝表面羟基的表征 已有3人参与

小弟我准备用原位红外表征氧化铝表面的羟基,400度真空处理2小时,我想指导背景应该怎么选呢?是不是应该先在装样品前扫描一个常温的空背景,然后放入样品升温后再扫描样品,差谱后就得到样品的表面羟基谱图?各位请给小的指导一下,谢谢了。
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guoxg701

荣誉版主 (职业作家)

引用回帖:
3楼: Originally posted by strawnese at 2014-06-23 14:35:28
专家你好,你的意思是就用氧化铝在200度时脱水后作为背景,然后再升高温度,比如400度下测定此温度时氧化铝的表面羟基吗?...

是的
绳锯木断,水滴石穿
4楼2014-06-23 14:58:57
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guoxg701

荣誉版主 (职业作家)

【答案】应助回帖

感谢参与,应助指数 +1
先在200度下(最好查一下文献,氧化铝吸附水脱除温度),惰气吹扫1小时或真空处理,脱去表面吸附水,分析作为指导背景,然后在进行上述操作。
绳锯木断,水滴石穿
2楼2014-06-20 11:12:54
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strawnese

金虫 (正式写手)


引用回帖:
2楼: Originally posted by guoxg701 at 2014-06-20 11:12:54
先在200度下(最好查一下文献,氧化铝吸附水脱除温度),惰气吹扫1小时或真空处理,脱去表面吸附水,分析作为指导背景,然后在进行上述操作。

专家你好,你的意思是就用氧化铝在200度时脱水后作为背景,然后再升高温度,比如400度下测定此温度时氧化铝的表面羟基吗?
3楼2014-06-23 14:35:28
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strawnese

金虫 (正式写手)


引用回帖:
4楼: Originally posted by guoxg701 at 2014-06-23 14:58:57
是的...

谢谢
5楼2014-06-23 15:50:13
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