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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 材料综合 » 材料物理 » 关于磁控溅射制备Fe2O3
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k.zhang821

木虫 (正式写手)
引用回帖:
10楼: Originally posted by muyangren at 2014-06-23 23:30:27
建设时间长一点，看看靶材有没有溅射的轨迹，靶材也测测有没有磁性。氧化铁有两种，一种是有铁磁性的

不同氧气溅射了一次，得到了较薄100nm左右的膜，Raman测试证明应该是Fe2O3.但是靶材表面出现很多碎小渣子，也没有看到别的靶材那种中间凹进去的溅射痕迹。不知道为什么
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11楼2014-06-30 14:34:33
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匿名

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12楼2014-12-23 20:53:02
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danyan0629

木虫 (正式写手)
引用回帖:
5楼: Originally posted by k.zhang821 at 2014-06-18 23:05:49
其实基本上可以确定没有溅射上膜。
就是不知道为什么溅射不上...

因为磁控溅射里面有磁铁啊，Fe的磁性很强，会干扰磁控溅射的磁场，基本上一个小时纯Fe也就溅射20nm了。FeOx的溅射速率就更低了。
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开心就好！
13楼2018-03-10 17:43:08
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