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1287619108

新虫 (小有名气)

[求助] 如何在n型硅上制备1-3nm厚的超薄氧化硅层(已去掉自然氧化层)? 已有2人参与

如何在中阻(1-3欧姆)的n型硅上制备1-3nm厚的超薄氧化硅层(已去掉自然氧化层)?
制备的氧化硅质量好,均匀性好,钝化效果好。我们实验室现在只能利用热氧化工艺制备,请问利用热氧化工艺(氧化炉或快速热退火)可以制备出质量较好的超薄氧化硅吗?或者还有什么其他好的处理方法吗?
求助各位大神,万分感激!!!
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1287619108

新虫 (小有名气)

我要制备的是氧化硅层,做太阳能电池的缓冲层用,不是氧化硅纳米颗粒。但还是谢谢你提供的帖子。
2楼2014-06-08 09:27:57
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scu2020

荣誉版主 (知名作家)

努力努力

【答案】应助回帖


tyhjqxbz: 金币+1, 感谢交流求助,常来工艺技术版 2014-06-11 21:26:55
引用回帖:
2楼: Originally posted by 1287619108 at 2014-06-08 09:27:57
我要制备的是氧化硅层,做太阳能电池的缓冲层用,不是氧化硅纳米颗粒。但还是谢谢你提供的帖子。

哈哈,那个是机器人!
会自动搜索一些相似帖子
耐心等等,论坛求助时效性不可保证的
3楼2014-06-10 23:16:30
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小黑白hun

木虫 (著名写手)


tyhjqxbz: 金币+1, 感谢交流求助,常来工艺技术版 2014-06-11 21:27:03
均匀性怎么控制呢?形成一个膜?这个涂抹?搞不懂

[ 发自手机版 http://muchong.com/3g ]
大大大
4楼2014-06-11 10:29:30
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焦天鹏

铜虫 (小有名气)

【答案】应助回帖


scu2020: 金币+1, 感谢应助交流,常来工艺技术版 2014-09-03 23:11:33
在80℃去离子热水中氧化,应该会满足你的需求
5楼2014-09-03 16:50:03
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