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关于薄膜XRD的求助
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tianci1993
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[
求助
]
关于薄膜XRD的求助
已有2人参与
最近用溶胶凝胶旋涂法在基底上面做薄膜。前一段时间用的ITO做基底,测XRD能测出来薄膜物质的峰。但是ITO到一定温度就融化了,后来换的硅片做基底。一样的旋涂工艺,但是测XRD的时候只出来一个很强的峰,在69°附近。不解,求虫友指点一二~
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2014-04-27 16:17:10
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tianci1993: 金币+20,
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最佳答案, 嗯。今天换了个地方测了,其他的峰出来了。测到69度就出了一个强峰,是硅的峰
2014-04-28 12:26:13
引用回帖:
4楼
:
Originally posted by
tianci1993
at 2014-04-28 08:32:57
已上传。请帮忙看一下。那个69°是不是硅片的峰?
2345截图20140428082621.jpg
2345截图20140428082757.jpg
...
如果用的是单晶硅,而且是(100)取向的话,这个可能是硅片的衍射峰。而且从背底来看,可能你的涂覆层确实没结晶,背底非常杂。
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7楼
2014-04-28 08:59:01
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建议放个数据上来看看~~~~~~
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2014-04-27 19:18:58
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【答案】应助回帖
感谢参与,应助指数 +1
没结晶?69度怀疑是杂质峰。上两个图看看
[ 发自手机版 http://muchong.com/3g ]
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3楼
2014-04-27 21:38:28
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2楼
:
Originally posted by
whd博士
at 2014-04-27 19:18:58
建议放个数据上来看看~~~~~~
已上传。请帮忙看一下。那个69°是不是硅片的峰?
2345截图20140428082621.jpg
2345截图20140428082757.jpg
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4楼
2014-04-28 08:32:57
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