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tianci1993

木虫 (著名写手)

[求助] 关于薄膜XRD的求助已有2人参与

最近用溶胶凝胶旋涂法在基底上面做薄膜。前一段时间用的ITO做基底,测XRD能测出来薄膜物质的峰。但是ITO到一定温度就融化了,后来换的硅片做基底。一样的旋涂工艺,但是测XRD的时候只出来一个很强的峰,在69°附近。不解,求虫友指点一二~
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whd博士

木虫 (著名写手)

【答案】应助回帖

★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★
感谢参与,应助指数 +1
tianci1993: 金币+20, ★★★★★最佳答案, 嗯。今天换了个地方测了,其他的峰出来了。测到69度就出了一个强峰,是硅的峰 2014-04-28 12:26:13
引用回帖:
4楼: Originally posted by tianci1993 at 2014-04-28 08:32:57
已上传。请帮忙看一下。那个69°是不是硅片的峰?

2345截图20140428082621.jpg

2345截图20140428082757.jpg
...

如果用的是单晶硅,而且是(100)取向的话,这个可能是硅片的衍射峰。而且从背底来看,可能你的涂覆层确实没结晶,背底非常杂。
7楼2014-04-28 08:59:01
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whd博士

木虫 (著名写手)

建议放个数据上来看看~~~~~~
2楼2014-04-27 19:18:58
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frankcs

铁虫 (小有名气)

【答案】应助回帖

感谢参与,应助指数 +1
没结晶?69度怀疑是杂质峰。上两个图看看

[ 发自手机版 http://muchong.com/3g ]
3楼2014-04-27 21:38:28
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tianci1993

木虫 (著名写手)

引用回帖:
2楼: Originally posted by whd博士 at 2014-04-27 19:18:58
建议放个数据上来看看~~~~~~

已上传。请帮忙看一下。那个69°是不是硅片的峰?
关于薄膜XRD的求助
2345截图20140428082621.jpg


关于薄膜XRD的求助-1
2345截图20140428082757.jpg

4楼2014-04-28 08:32:57
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