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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 材料综合 » 材料物理 » 请教，PVD制备薄膜方法中的溅射方法可分为几类？
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yipaishi

银虫 (小有名气)

[交流] 请教，PVD制备薄膜方法中的溅射方法可分为几类？

本人不是材料专业，急需查询相关知识，望知者相告。
我调研文献，发现溅射（sputtering）的分类比较混乱，中文论文的用词也相当混乱。目前查询的结果是：射频溅射、直流溅射、磁控溅射、离子束溅射、反应溅射还有些叫法，是它们的混合称谓，如射频磁控溅射法。有的分类可能还互相有重合。所以，有没有基础扎实者给一个较为权威的解释。
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1楼 2014-04-16 22:38:33
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刺客yl

铁虫 (正式写手)
磁控溅射包括：射频溅射、直流溅射、交流溅射三种。这不是混合称谓，而是总分关系。
此外大种类还有：激光脉冲沉积、化学气相沉积、分子束外延、离子束溅射等等。他们的名称，基本就是”产生微粒的方法+生长方式“命名的。
你提到的反应溅射，应该算是化学气相沉积。通过气相化学反应，产生目标化合物等，沉积到基底表面，形成薄膜。
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22楼2014-04-17 09:26:56
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44363829楼
2014-04-16 23:10   回复  
yipaishi(金币+1): 谢谢参与
！ [ 发自手机版 http://muchong.com/3g ]
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