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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 化学化工区 » 高分子 » 请教：关于HDDA光固化涂层 的透明性
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htliu_hust

至尊木虫 (著名写手)
引用回帖:
Originally posted by zhangabchui at 2008/3/4 11:31:

我是在真空度为4mba 的条件下做的

在真空的情况下做光固化，肯定会挥发啦。气压越低，挥发越快。
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紫外光固化树脂、光固化原料、光固化设备、快速成形光固化树脂、光固化胶
11楼2008-03-04 18:15:00
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zhangabchui

木虫 (小有名气)
引用回帖:
Originally posted by htliu_hust at 2008-3-4 18:15:



在真空的情况下做光固化，肯定会挥发啦。气压越低，挥发越快。

恩，这个我同意。有可能是抽真空造成的HDDA得挥发，虽然HDDA的沸点200多度。
是个麻烦得问题，目前我用的是光强为1.4mW/cm2得LED得紫外灯，如果不抽真空，氧气会阻聚。是个麻烦得问题。。。。。我想顺便问一下，你们都是用什么光固化设备，有没有你们比较熟悉的光强适中的，适合搞研究的，较好的进口光固化设备。

之前我是用得TMPTA 作为稀释剂，但因为加入了大量的纳米颗粒，黏度太大，加溶剂稀释旋涂。溶剂虽然挥发，但是也没有出现毛玻璃，雾状涂层。

[ Last edited by zhangabchui on 2008-3-4 at 19:50 ]
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12楼2008-03-04 19:37:34
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zhangabchui

木虫 (小有名气)
引用回帖:
Originally posted by htliu_hust at 2008-3-4 18:15:



在真空的情况下做光固化，肯定会挥发啦。气压越低，挥发越快。

然后，我还有个问题想请教你，就是我想做一个freestanding的薄膜，长宽大概在10mm－20mm左右，厚度为几个um到2mm，同样是以这个丙烯酸酯为基体，请问你有没有什么好的建议。

非常感谢
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13楼2008-03-04 20:32:52
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unclewu

木虫 (著名写手)
氧气阻聚的问题可以通过氮气保护的方法来解决，这样可以不用抽真空，看看是不是真空引起的问题啊。
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14楼2008-03-04 21:02:25
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