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微流控芯片的制作 已有3人参与
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SU 8光刻胶是负胶,在基材上甩胶、紫外曝光后,曝光部分的图案留在基材上,因结构做的不是实验所需,想洗掉曝光的图案,请问大家,有什么溶液可以? |
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