24小时热门版块排行榜    

查看: 907  |  回复: 5
当前只显示满足指定条件的回帖,点击这里查看本话题的所有回帖

肖敬荣

金虫 (小有名气)

[求助] 微流控芯片的制作 已有3人参与

SU 8光刻胶是负胶,在基材上甩胶、紫外曝光后,曝光部分的图案留在基材上,因结构做的不是实验所需,想洗掉曝光的图案,请问大家,有什么溶液可以?
回复此楼

» 猜你喜欢

» 本主题相关价值贴推荐,对您同样有帮助:

已阅   回复此楼   关注TA 给TA发消息 送TA红花 TA的回帖

末世仓雪

银虫 (初入文坛)

【答案】应助回帖

突然发现,回答的有点错误,应该是用去胶剂,而不是显影液

[ 发自手机版 http://muchong.com/3g ]
6楼2014-05-09 16:57:10
已阅   回复此楼   关注TA 给TA发消息 送TA红花 TA的回帖
查看全部 6 个回答

橡胶人

荣誉版主 (文坛精英)

优秀版主优秀版主优秀版主

【答案】应助回帖

感谢参与,应助指数 +1
2楼2014-04-03 11:45:00
已阅   回复此楼   关注TA 给TA发消息 送TA红花 TA的回帖

highchen

金虫 (小有名气)

【答案】应助回帖

★ ★ ★ ★ ★
肖敬荣: 金币+5 2014-04-26 10:41:28
显影后的su8很难去除。基底材料是什么?如果是硅片或玻璃片,建议使用Piranha,浓硫酸加双氧水。
3楼2014-04-18 09:34:04
已阅   回复此楼   关注TA 给TA发消息 送TA红花 TA的回帖

肖敬荣

金虫 (小有名气)

引用回帖:
3楼: Originally posted by highchen at 2014-04-18 09:34:04
显影后的su8很难去除。基底材料是什么?如果是硅片或玻璃片,建议使用Piranha,浓硫酸加双氧水。

我们已经试了这种方法,谢啦
4楼2014-04-26 10:41:13
已阅   回复此楼   关注TA 给TA发消息 送TA红花 TA的回帖
信息提示
请填处理意见