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肖敬荣

金虫 (小有名气)

[求助] 微流控芯片的制作 已有3人参与

SU 8光刻胶是负胶,在基材上甩胶、紫外曝光后,曝光部分的图案留在基材上,因结构做的不是实验所需,想洗掉曝光的图案,请问大家,有什么溶液可以?
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橡胶人

荣誉版主 (文坛精英)

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【答案】应助回帖

感谢参与,应助指数 +1
2楼2014-04-03 11:45:00
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highchen

金虫 (小有名气)

【答案】应助回帖

★ ★ ★ ★ ★
肖敬荣: 金币+5 2014-04-26 10:41:28
显影后的su8很难去除。基底材料是什么?如果是硅片或玻璃片,建议使用Piranha,浓硫酸加双氧水。
3楼2014-04-18 09:34:04
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肖敬荣

金虫 (小有名气)

引用回帖:
3楼: Originally posted by highchen at 2014-04-18 09:34:04
显影后的su8很难去除。基底材料是什么?如果是硅片或玻璃片,建议使用Piranha,浓硫酸加双氧水。

我们已经试了这种方法,谢啦
4楼2014-04-26 10:41:13
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末世仓雪

银虫 (初入文坛)

【答案】应助回帖

我们的做法是将它放在显影液里,带图案消失后,用水冲洗,然后再先后用丙酮、无水乙醇、去离子水分别放在超声洗涤槽中洗,效果还不错
5楼2014-05-08 11:24:09
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末世仓雪

银虫 (初入文坛)

【答案】应助回帖

突然发现,回答的有点错误,应该是用去胶剂,而不是显影液

[ 发自手机版 http://muchong.com/3g ]
6楼2014-05-09 16:57:10
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