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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 化学化工区 » 高分子 » 功能高分子 » 微流控芯片的制作
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肖敬荣

金虫 (小有名气)

[求助] 微流控芯片的制作 已有3人参与

SU 8光刻胶是负胶，在基材上甩胶、紫外曝光后，曝光部分的图案留在基材上，因结构做的不是实验所需，想洗掉曝光的图案，请问大家，有什么溶液可以？
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1楼 2014-04-03 10:07:09
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橡胶人

荣誉版主 (文坛精英)

优秀版主优秀版主优秀版主

【答案】应助回帖

感谢参与，应助指数 +1
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2楼2014-04-03 11:45:00
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highchen

金虫 (小有名气)

【答案】应助回帖

★ ★ ★ ★ ★
肖敬荣: 金币+5 2014-04-26 10:41:28
显影后的su8很难去除。基底材料是什么？如果是硅片或玻璃片，建议使用Piranha，浓硫酸加双氧水。
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3楼2014-04-18 09:34:04
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肖敬荣

金虫 (小有名气)
引用回帖:
3楼: Originally posted by highchen at 2014-04-18 09:34:04
显影后的su8很难去除。基底材料是什么？如果是硅片或玻璃片，建议使用Piranha，浓硫酸加双氧水。

我们已经试了这种方法，谢啦
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4楼2014-04-26 10:41:13
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末世仓雪

银虫 (初入文坛)

【答案】应助回帖

我们的做法是将它放在显影液里，带图案消失后，用水冲洗，然后再先后用丙酮、无水乙醇、去离子水分别放在超声洗涤槽中洗，效果还不错
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5楼2014-05-08 11:24:09
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末世仓雪

银虫 (初入文坛)

【答案】应助回帖

突然发现，回答的有点错误，应该是用去胶剂，而不是显影液

[ 发自手机版 http://muchong.com/3g ]
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6楼2014-05-09 16:57:10
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