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songxiaoyuan

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[求助] 为什么TPR测出的CuO/CeO2催化剂的低温区峰面积会小于理论峰面积呢？已有2人参与

遇到一个问题，希望高人来指点下。
在测试CuO/CeO2催化剂的TPR时，低温区主要是氧化铜的还原峰，平时正常来说应该是二氧化铈有半生还原，所以测试TPR得到的低温区峰面积会比理论峰面积大吧。我现在有两个样品正好相反，理论峰面积大于测试的峰面积。这怎么解释通呢？
说明：理论峰面积是用XRF测试的结果，通过氧化铜标准曲线计算出的

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1楼 2014-03-18 21:20:05

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songxiaoyuan

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引用回帖:

3楼: Originally posted by 帅艳 at 2014-03-20 13:31:48
CuO/CeO2中氧化铜的还原也是分阶段的，与CuO的颗粒大小。及CuO和CeO2之间的相互作用有关，低温峰一般对应高分散CuO的还原，只是催化剂中CuO的一部分。我不清楚你的低温峰理论峰面积具体是怎么算的，因此也不太确定。

非常感谢！我知道氧化铜是分阶段还原的，我说的低温区已经包括所有的氧化铜物种的还原了。理论峰面积就是由氧化铜的标准曲线计算得到的。