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铜虫 (初入文坛)

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[求助] 旋涂法制备氧化石墨烯膜的相关问题已有1人参与

小弟最近在用旋涂法制备氧化石墨烯膜，但是做的过程中出现了一些问题，想请教各位做过的大神，指点下小弟。
1、我将氧化石墨烯的分散液滴在Si基地上，想通过旋涂制备成膜，但是发现根本涂不上，请问这是什么原因呢，我配的分散液的浓度为1mg/ml，我应该如何解决。
2、我看了一些文献说基地要进行亲水话处理，请问若进行该处理，我应该如何操作，处理时间一般为多少合适。
最后小弟在这里谢过各位大神了，真诚希望各位大神能给小弟一点意见，小弟不胜感激。

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海到无边天作岸，山登绝顶我为风

1楼2013-11-03 16:21:29

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引用回帖:

7楼: Originally posted by papaverme at 2013-11-04 17:28:36
没做过GO分散液的旋涂，不了解你需要制成怎样的膜。需要多厚？你是基于什么考虑选取的分散液浓度。

以其他材料旋涂过程的经验，1mg/mL的溶液，在几千转每分的转速下，成的膜是可能薄到肉眼看不出来的（数十纳米， ...

大神您好，首先非常感谢您的回答，就您给的建议，小弟做以下几点回答：
1、厚度不做过多的要求，几十nm左右的都可以满足条件。
2、我曾经用低转速做过，但是发现在硅片的溶液仅仅是铺展开来，高转速下，硅片上的溶液则全部飞出去，一点成膜的痕迹都没有，并且在AFM下做过测试，发现没有一点变化。
3、您所提的亲水话处理的话，我也考虑过用氧等离子等打，但是实验室的条件并不具备。
4、至于为什么想做成氧化石墨烯膜，主要是想模仿一位大牛在science上发的文章，用于一定的气体分离。
谢谢您的无私指教，如果您还有什么更好的建议，欢迎您继续无私的给予帮助。