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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 化学化工区 » 分析 » 光谱分析 » 紫外扫基线遇到的问题
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零影贝

新虫 (初入文坛)

[交流] 紫外扫基线遇到的问题 已有6人参与

做紫外（UV1900）时用有机溶剂做背景扫基线时400nm以前出现很多杂峰，换成水时没有这个问题，用的是四通比色皿（石英），请教各位解答是什么原因?该怎么解决？
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1楼 2013-10-02 17:06:17
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songyuze0319

金虫 (正式写手)
★ ★
小木虫: 金币+0.5, 给个红包，谢谢回帖
release53: 金币+1, 感谢交流 2013-10-05 10:28:42
如果你的样品要得到400以内的峰，有一个办法，你可一试：首先挥发掉溶剂，然后用另一种能溶解样品但又不影响样品出峰的溶剂溶解样品，这样就能解决问题了。这种情况我们曾遇到过，就是这样解决滴。。。祝好运！
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零影贝
10楼2013-10-04 09:35:15
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songyuze0319

金虫 (正式写手)
★
小木虫: 金币+0.5, 给个红包，谢谢回帖
是190-400吗？那很可能是你的有机溶剂在这个范围有强吸收，而水几乎无吸收，所以。。。
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3楼2013-10-02 18:42:19
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零影贝

新虫 (初入文坛)
引用回帖:
3楼: Originally posted by songyuze0319 at 2013-10-02 18:42:19
是190-400吗？那很可能是你的有机溶剂在这个范围有强吸收，而水几乎无吸收，所以。。。

是在190-400nm范围内出现。我的反应体系是有机溶剂做溶剂，得到的物质吸收峰也在400以内，这种情况该怎么解决呢？
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4楼2013-10-02 18:54:50
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零影贝

新虫 (初入文坛)
引用回帖:
2楼: Originally posted by Gordon_2010 at 2013-10-02 18:35:49
影响吗？

有影响，要测的物质峰也在400以内，
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5楼2013-10-02 18:55:29
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