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请教TEM 铜网使用问题
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adomslion
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请教TEM 铜网使用问题
我想制备一个TiO2薄膜样品进行TEM观察,基本工艺为:反应溅射,基片温度400℃。请问我可以直接在带碳膜的TEM铜网上沉积薄膜么?我担心碳膜和铜网耐不了那么高的温度,也可能被氧化。请问谁有么有制备氧化物薄膜的TEM样品的经验啊?谢谢!
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1楼
2013-09-23 22:10:05
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adomslion
金虫
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非常感谢二楼的分享。金网应该贵不少,呵呵。
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3楼
2013-09-24 02:03:56
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gxytju2008
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【答案】应助回帖
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kunpeng1782: 专家考核, 谢谢您的指导
2013-09-24 18:41:02
adomslion: 金币+5,
★★★
很有帮助, 很不错的建议,谢谢啦
2013-09-25 22:56:38
不清楚400度咋样,最高升温到260度过,碳膜还可以受的主,铜氧化的话可以用金网,先试试吧,如果碳膜不行可以找特殊膜,貌似有二氧化硅膜的
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2楼
2013-09-23 22:40:48
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gxytju2008
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3楼
:
Originally posted by
adomslion
at 2013-09-24 02:03:56
非常感谢二楼的分享。金网应该贵不少,呵呵。
试一下总还是可以的,40左右一个,非要用也没办法
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4楼
2013-09-24 10:19:33
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pillywoody
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你可以试试Si3N4 TEM 窗口,我买过上海昭沅的,900度都可以。你问问。
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5楼
2013-09-24 14:04:25
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