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jinjunjian

金虫 (小有名气)

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[求助] 沸石硅羟基红外表征，3745峰没出来，3444位置有较大峰，求原因

小木虫的各位老师兄弟姐妹，小弟最近做了一组沸石的红外表征，目的是想表征沸石硅羟基在处理过程的变化，文献报道表征过程一般是压片后在真空腔室中升温脱附，可我暂时没这条件，所以为了排除吸附水的干扰，特意在马弗炉中450度焙烧6个小时然后马上红外灯下压片制样做。
结果在4000-3000波数范围内的图形如下第一张图所示，在3440处还是有一很大的峰，这个峰看文献可能还是吸附水的羟基峰，对于如何排除此峰干扰，不知道论坛的老师兄弟姐们有何见解。1，是不是必须通过原位红外仪器，真空干燥表征？2，还是说可以尝试数据后处理也行，因为我在不少文献中看到有“The absorbance values were normalized with the 1882 cm-1 band corresponding to the Si-O overtone of zeolite framework"这么一句话，也不是很懂？根据啥来正常化？
小弟在此谢过红外方面大牛不吝指导！
附图：第一张为我的原始数据，第二章为我希望得到的类似图，截自文献；

红外图.JPG

文献图1.jpg

[ Last edited by jinjunjian on 2013-9-6 at 16:45 ]

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明天会更好！

1楼 2013-09-06 16:41:37

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baby521

铁杆木虫 (著名写手)

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【答案】应助回帖

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感谢参与，应助指数 +1
非文王木木: 金币+1, 感谢交流·····欢迎常来 2013-09-06 22:32:44
jinjunjian: 金币+150, ★★★很有帮助, 50 2013-09-06 23:19:33

1. 凭经验，还是尽量原位处理，非原位处理很难避免再次吸水（吸痕量的水便会对OH吸收峰产生强烈影响）。你的谱图就是明显的水没有脱附完全。
2. 按照那个峰强度归一化处理。