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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 微米和纳米 » 学术讨论 » 合成介孔二氧化硅的过程中出现絮状沉淀
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yyaijj121

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11楼2015-08-31 15:12:09
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yyaijj121

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12楼2015-08-31 15:16:53
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yyaijj121

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13楼2016-03-30 21:31:08
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叶子0312

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5楼: Originally posted by qinyubinglan at 2013-09-08 08:32:08
加TEOS时，速度慢一点，油浴锅的速度调整合适，降温的时候从油浴锅中取出，慢慢冷却至常温，没有问题。TEOS sigma

想问一下搅拌速度大概调整至什么程度，刚刚有漩涡可以吗
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14楼2017-06-09 20:32:17
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斷橋殘雪

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14楼: Originally posted by 叶子0312 at 2017-06-09 20:32:17
想问一下搅拌速度大概调整至什么程度，刚刚有漩涡可以吗...

楼主做出来没，我做了几次粒径都在220想做到一百以下，反应现象跟你的差不多，我看好多都是说要剧烈搅拌但没加TEOS前又不让有气泡又没说转速大概在什么范围，心累啊
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15楼2019-04-23 15:20:04
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斷橋殘雪

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6楼: Originally posted by 骑着蜗牛追火箭 at 2013-09-08 16:07:32
搅拌很关键，一定要均匀，速度要适中，降温过程让它自然降温。应该没问题。这种做法做出来可以做得很均匀，小的可以做到一百多个纳米。参照Victor S Y Lin 和 Zink等人的做法，海量文献。

做了几次跟楼主现象差不多，反应时还好，降温后离心的时候能明显看到很多的絮状的物质，这正常么？
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16楼2019-04-23 15:27:06
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斷橋殘雪

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3楼: Originally posted by 一生之水 at 2013-09-06 20:55:36
你做出来的粒径有多少纳米啊？  我做了几锅，怎么都在微米级啊。。。...

楼主测得电镜么还是什么，我测的DLS 220nm有峰位但是平均粒径有2000nm都到微米级别了，测试那人说是有团聚现象，这到底什么情况啊
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17楼2019-04-23 15:29:38
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