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正相HPLC检测对映异构体,空白辅料没有干扰,原料没有干扰,而片粉有干扰。什么原因?
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qiuling
金虫
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虫号: 888830
[交流]
正相HPLC检测对映异构体,空白辅料没有干扰,原料没有干扰,而片粉有干扰。什么原因?
采用正相HPLC检测对映异构体,流动相为正己烷-异丙醇-三乙胺=60-40-0.1,样品为一碱性化合物的盐酸盐,采用流动相溶样。测定结果:空白辅料无干扰,无任何峰;原料在异构体的出峰处及附近亦无峰,而片粉则在异构体的附近出现杂质峰,对对映异构体的测定有干扰,两者达不到基线分离。更换溶样溶剂为正己烷-异丙醇(60-40)和乙醇,该杂质峰仍存在,且含量基本没变。目前比较困惑:原料没有这个杂质,辅料也没有这个杂质。而片粉却出现了这个杂质?!难道是原料跟辅料在溶剂里发生了反应?因本人做正相HPLC经验较少,希望大家一起探讨一下,提点建议:该方法应该如何进行优化?。非常感谢!
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2013-08-02 15:59:58
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qiuling
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引用回帖:
7楼
:
Originally posted by
tangfh1973
at 2013-08-03 14:12:45
正相HPLC就检测手性杂质就可以了,其它不用考虑,相关物质还是用反相检测吧
对。其他的有关物质是通过反相来做的,这个正相只是用来检测对映异构体。但是原料只要跟辅料混合在一起,就会产生该杂质,干扰异构体的测定,两者分离度只有1.0。
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10楼
2013-08-06 12:29:31
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habulu
木虫
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2013-08-06 09:29:00
痴夷子皮: 金币+1, 谢谢交流,欢迎常来哦。
2013-08-08 08:58:51
请问这位同学,在处方工艺确定前是否做过辅料相容性实验,你HPLC进针原料药和各种辅料,二者是没有交叉的,而片粉不同是原料药和辅料在一起混合、制粒、烘干、整粒、压片的过程,很有可能会产生一些新的杂质,所以才有必要做原辅料相容性实验
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2楼
2013-08-02 16:38:14
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ienjoysun
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★ ★
小木虫: 金币+0.5, 给个红包,谢谢回帖
qiuling: 金币+1
2013-08-06 09:30:32
这极有可能是制剂过程中或相容性出现问题了
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5楼
2013-08-03 08:47:55
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wanghuaihu
银虫
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qiuling: 金币+1
2013-08-06 09:30:40
有可能是在制软材或干燥过程中产生。影响因素有很多
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6楼
2013-08-03 09:58:50
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wswsjz
3楼
2013-08-02 17:48
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祝福祝福祝福祝福祝福祝福!
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