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掺杂后的杂质能级问题
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对于不同大小的Cu团簇（1，2，3，4原子团簇）吸附二氧化钛纳米管 前面两个帖子中 我画了一下dos图 因为展宽的问题 很多杂志能级被隐藏了 现在我做了一下能带图，明显出现了很多杂志能级 但是对于这些杂志能级，请高手帮我看看这样的杂质能级正常不，这个能看出什么规律吗  F(X]2LV}6M][_VT5UB@5DFQ.jpg |
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souledge
专家顾问 (著名写手)
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【答案】应助回帖
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707462558: 金币+5 2013-07-08 09:43:53
franch: 金币+2, 谢谢回帖交流，， 2013-07-08 22:57:22
707462558: 金币+5 2013-07-08 09:43:53
franch: 金币+2, 谢谢回帖交流，， 2013-07-08 22:57:22
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不能说不正常，放入的Cu cluster的能级位置正好在TiO2 NT的带隙位置，所以搀杂后提高了HOMO的真空能级，缩小了带隙。 如果需要进一步的分析规律，首先要单独计算一下Cu Cluster的能级分布/DOS，看Cu Cluster的四种不同构型是否本身能级分布就有大的差别。因为从LZ的图来看，Cluster 1和Cluster 3的情况比较相似，都是搀杂后使LUMO成为半满带，从而整个体系成为导体。而Cluster 2和Cluster 4都仅仅是将HOMO提高到了Cu Cluster的能级上，不影响体系的半导体性（仅仅从已知区域判断，可能其他区域已经有能带穿过了，这个还是看看DOS吧）。 在确定Cu Cluster的不同构型/尺寸的能级规则后，还需要再检查一下Cu-TiO2的相互作用，不同的Cluster可能相互作用上有些差异，相互作用的preferred的位置可能也有差异。 |
11楼2013-07-07 13:54:52
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2楼2013-07-02 23:13:07
武明义郑大
铁虫 (初入文坛)
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- 性别: GG
- 专业: 凝聚态物性 II ：电子结构
4楼2013-07-03 10:52:22
5楼2013-07-03 21:48:15