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rikuro

新虫 (初入文坛)

[求助] 如何根据拉曼光谱来分析晶体质量变化及应力分析

如题 ,本人在做氧化铝晶体的加工,加工前后晶体质量可能变化,表面应力也可能变化,现在想用拉曼来分析这种变化,但刚用拉曼,不知道怎么分析,求高人指点。
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pinguo

铁杆木虫 (著名写手)

【答案】应助回帖

引用回帖:
4楼: Originally posted by rikuro at 2013-06-22 16:21:00
你好。关于扫描范围 扫描次数,扫描时间 方面的理解需要高手的验证。
在测试时,上面这几方面具体有什么 作用或意义,?
不知道我理解得对不对...

这个关于扫描时间以及次数,无非是牵扯到信噪比的问题。所以,我认为,你在做测试的时候保持你的测量参数一致,结果对比就有意义。如果还是觉得不保险,找相关的文献,按照文献上面的参数来作为参照。
6楼2013-06-24 02:31:58
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pinguo

铁杆木虫 (著名写手)

【答案】应助回帖

★ ★ ★
感谢参与,应助指数 +1
crity328: 金币+1, 感谢交流,欢迎常来~ 2013-06-21 21:58:28
rikuro: 金币+2, 有帮助 2013-06-22 12:24:49
这个需要看看文献,与你的课题类似的,有计算公式可以计算应力的。
我知道硅晶体表面的应力的变化会导致峰位峰型的变化。
你可以使用加工处理前后的Raman光谱的变化来分析。
2楼2013-06-21 16:57:33
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rikuro

新虫 (初入文坛)

引用回帖:
2楼: Originally posted by pinguo at 2013-06-21 16:57:33
这个需要看看文献,与你的课题类似的,有计算公式可以计算应力的。
我知道硅晶体表面的应力的变化会导致峰位峰型的变化。
你可以使用加工处理前后的Raman光谱的变化来分析。

谢谢回复。你做硅的分析时,具体过程怎么做的?
3楼2013-06-22 12:26:39
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rikuro

新虫 (初入文坛)

引用回帖:
2楼: Originally posted by pinguo at 2013-06-21 16:57:33
这个需要看看文献,与你的课题类似的,有计算公式可以计算应力的。
我知道硅晶体表面的应力的变化会导致峰位峰型的变化。
你可以使用加工处理前后的Raman光谱的变化来分析。

你好。关于扫描范围 扫描次数,扫描时间 方面的理解需要高手的验证。
在测试时,上面这几方面具体有什么 作用或意义,?
不知道我理解得对不对
4楼2013-06-22 16:21:00
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