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半导体薄膜制备及加工技术实验室
磁控溅射、电子束蒸镀制备金属薄膜Au,Ag,Al,Cu,Cr,Fe,Mo,Ni,非金属薄膜Al2O3,AZO,ITO,Si,SiO2,Si3N4,ZnO;IBE、RIE、WE刻蚀加工
联系人:
赵工
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内容
我室为专门的薄膜制备与刻蚀加工实验室,拥有多台大型磁控溅射、电子束蒸镀、LPCVD设备。可镀Mo、Au、Ag、Al、Cu、Cr、Fe、Ni等金属薄膜和Si、SiO2、Si3N4、Al2O3、AZO、ZnO、ITO等非金属薄膜,厚度一般在10~1000nm。加工TCO透明导电膜。可提供玻璃片、硅片基底,若选其他基底请自备。
提供RIE、IBE、WE等全套刻蚀加工服务,可刻蚀各种金属、非金属图形结构。非金属材料一般用RIE,金属常用IBE,刻蚀面积最大可为150mm直径。提供石英基底、硅基底压印模板加工。
赵工 壹伍壹零捌贰玖玖捌壹陆
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