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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 专业学科区 » 物理 » 凝聚态物理 » 氩气用于等离子刻蚀、等离子清洗，离子束刻蚀的比较
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hello_Jzz

银虫 (小有名气)

[交流] 氩气用于等离子刻蚀、等离子清洗，离子束刻蚀的比较

我想各位同志一定用过等离子刻蚀、等离子清洗和离子束刻蚀，或者其中的某一个，这三个仪器都可以用氩气作为气体源。所以，我很想知道，这三个有什么区别，都各自用在什么地方，怎么更好的利用这三个仪器。
请走过路过的朋友们都说说自己用的仪器以及对仪器的认识哈。
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1楼 2013-06-03 10:47:32
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林深之夏

铁虫 (正式写手)
★
hello_Jzz(金币+1): 谢谢参与
引用回帖:
6楼: Originally posted by 季岩冰 at 2013-06-07 11:43:01
等离子体刻蚀根据工作气体成分与样品是否作用分为物理溅射刻蚀，化学反应刻蚀和离子辅助刻蚀三类，由于你用的氩气为惰性气体，难以与其他材料发生反应，因此主要是一种物理溅射刻蚀，高能离子或者原子与样品表面碰撞 ...

想问层主，如果做si纳米线，刻蚀是否用掩膜，还是发射离子的直接可以发射离子阵列，直接刻蚀？
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17楼2016-02-16 20:44:56
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leongoall

专家顾问 (知名作家)
★
hello_Jzz(金币+1): 谢谢参与
文字游戏而已，本质都是氩离子轰击材料表面，别被绕进去了！
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2楼2013-06-04 01:54:23
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hello_Jzz

银虫 (小有名气)
引用回帖:
2楼: Originally posted by leongoall at 2013-06-04 01:54:23
文字游戏而已，本质都是氩离子轰击材料表面，别被绕进去了！

但三者总应该有区别吧，
我看到过有说法是：离子束刻蚀是物理方法，反应离子刻蚀是化学方法。
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3楼2013-06-04 10:33:12
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lukegan

禁虫 (初入文坛)
★
hello_Jzz(金币+1): 谢谢参与
本帖内容被屏蔽
4楼2013-06-06 10:52:01
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