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hello_Jzz

银虫 (小有名气)


[交流] 氩气用于等离子刻蚀、等离子清洗,离子束刻蚀的比较

我想各位同志一定用过等离子刻蚀、等离子清洗和离子束刻蚀,或者其中的某一个,这三个仪器都可以用氩气作为气体源。所以,我很想知道,这三个有什么区别,都各自用在什么地方,怎么更好的利用这三个仪器。
请走过路过的朋友们都说说自己用的仪器以及对仪器的认识哈。
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林深之夏

铁虫 (正式写手)



hello_Jzz(金币+1): 谢谢参与
引用回帖:
6楼: Originally posted by 季岩冰 at 2013-06-07 11:43:01
等离子体刻蚀根据工作气体成分与样品是否作用分为物理溅射刻蚀,化学反应刻蚀和离子辅助刻蚀三类,由于你用的氩气为惰性气体,难以与其他材料发生反应,因此主要是一种物理溅射刻蚀,高能离子或者原子与样品表面碰撞 ...

想问层主,如果做si纳米线,刻蚀是否用掩膜,还是发射离子的直接可以发射离子阵列,直接刻蚀?
17楼2016-02-16 20:44:56
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hello_Jzz(金币+1): 谢谢参与
文字游戏而已,本质都是氩离子轰击材料表面,别被绕进去了!
2楼2013-06-04 01:54:23
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hello_Jzz

银虫 (小有名气)


引用回帖:
2楼: Originally posted by leongoall at 2013-06-04 01:54:23
文字游戏而已,本质都是氩离子轰击材料表面,别被绕进去了!

但三者总应该有区别吧,
我看到过有说法是:离子束刻蚀是物理方法,反应离子刻蚀是化学方法。
3楼2013-06-04 10:33:12
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lukegan

禁虫 (初入文坛)


hello_Jzz(金币+1): 谢谢参与
本帖内容被屏蔽

4楼2013-06-06 10:52:01
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