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hello_Jzz

银虫 (小有名气)

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帖子: 226
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虫号: 1321426

[交流] 氩气用于等离子刻蚀、等离子清洗，离子束刻蚀的比较

我想各位同志一定用过等离子刻蚀、等离子清洗和离子束刻蚀，或者其中的某一个，这三个仪器都可以用氩气作为气体源。所以，我很想知道，这三个有什么区别，都各自用在什么地方，怎么更好的利用这三个仪器。
请走过路过的朋友们都说说自己用的仪器以及对仪器的认识哈。

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1楼2013-06-03 10:47:32

已阅回复此楼关注TA 给TA发消息送TA红花 TA的回帖

Vimon

铜虫 (正式写手)

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★
hello_Jzz(金币+1): 谢谢参与

引用回帖:

7楼: Originally posted by hello_Jzz at 2013-06-07 12:50:50
各位回答的都很好，我也自己去调研了一下，得到了如下的结论，和大家一起分享。
一般的刻蚀方法有：反应离子刻蚀RIE，等离子体清洗、刻蚀PE，离子束刻蚀IBE。反应离子刻蚀，顾名思义，就是利用活性气体通过四个过 ...

请问反应离子刻蚀中的用以刻蚀的工质是不是等离子体？RIE和等离子体化学刻蚀的强度相比如何？如果工质是惰性气体是否一定是离子束溅射？
另外，离子铣削（氩离子）是否与离子束溅射同义？
我目前了解的是，离子铣削的强度要大于RIE，等离子体刻蚀/抛光相比RIE主要缺点是各向同性。