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关于FTO基片上Fe2O3纳米线的光电流问题
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关于FTO基片上Fe2O3纳米线的光电流问题
小虫是用水热法在FTO基片上长的Fe2O3的纳米线(500度烧结的),现在通过电化学工作站测量所做基片的光电流和暗电流,并通过Origin作图发现,光电流和暗电流区别不大,现在向各位虫友求救,是不是哪个步骤出问题了?
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13楼
:
Originally posted by
hanyu13105
at 2013-05-22 16:02:40
一般是在550度加热2个小时使羟基氧化铁转变成氧化铁,然后继续升温至800度加热5分钟,这个过程是连续的,我没有尝试过先冷却至室温再加热,而且750度加热不能2个小时,那样的话基底肯定坏了。我们一般是按照这篇文 ...
"一般是在550度加热2个小时使羟基氧化铁转变成氧化铁,然后继续升温至800度加热5分钟,这个过程是连续的",我想问800度烧5分钟之后是立即从马弗炉中取出还是放在马弗炉中冷却到室温?
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15楼
2013-05-23 09:18:10
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124685887: 金币+2, 专家考核, 谢谢指导
2013-05-19 15:32:31
有可能是长得太厚了,电子传导会有问题,三氧化二铁中电子传输距离很短的。
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2楼
2013-05-19 14:34:34
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橙汁泡饭: 金币+3,
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很有帮助
2013-05-20 11:15:04
忘记说了,500度对于三氧化二铁可能低了点,与基底的接触未必好
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3楼
2013-05-19 14:36:23
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3楼
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xiejf
at 2013-05-19 14:36:23
忘记说了,500度对于三氧化二铁可能低了点,与基底的接触未必好
温度是低了一点,现在我改为700度了,今天又测了一遍光电流,有所改变,至于厚度,我是用水热做的,应该不会很厚,要不要去拍个SEM?
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4楼
2013-05-20 11:16:53
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