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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 材料工程 » 工艺设计与开发 » 硅片作为衬底时怎么去除表面氧化层
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英雄无刀

银虫 (小有名气)

【答案】应助回帖

★
314977903: 金币+1, 应助指数+1, 感谢参与应助！ 2013-09-24 10:45:44
衬底硅片表面氧化层，这个百度就有。
还得看你的使用情形，如果是工业生产的话，就参照3楼的加工方法。如果是实验室买回来做实验的硅衬底表面处理的话，不需要那么复杂，APM和SPM可以省去
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11楼2013-09-24 10:40:21
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杜xiao若

新虫 (初入文坛)
★ ★
314977903: 金币+2, 欢迎新虫常来交流！ 2015-01-19 08:13:02
引用回帖:
5楼: Originally posted by yswyx at 2013-05-07 11:47:02
非常快！原生氧化层，瞬间的事儿，保守10秒内肯定搞定了。你可以用BOE，浓度低，反应平缓。...

如果是干氧热氧化法生长二氧化硅之后，想要去除背面的氧化层怎么办呢？
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12楼2015-01-18 19:25:19
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yswyx

专家顾问 (著名写手)
引用回帖:
12楼: Originally posted by 杜xiao若 at 2015-01-18 19:25:19
如果是干氧热氧化法生长二氧化硅之后，想要去除背面的氧化层怎么办呢？...

正面保护，然后用HF去除背面氧化层，然后清洗。
如果觉得这个不方便，可以让专门的公司做，比如苏州锐材。
赞一下 回复此楼
13楼2015-01-19 15:24:51
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