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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 材料工程 » 工艺设计与开发 » 硅片作为衬底时怎么去除表面氧化层
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11lywang

新虫 (初入文坛)

[求助] 硅片作为衬底时怎么去除表面氧化层

我查了一下，要去除硅片表面的氧化层，根据CRA的标准清洗方法，可用DHF溶液，也就是HF和H2O2和去离子水按一定比例配成的溶液来处理，单纯这个溶液就能达到去除表面氧化层的目的吗？如果可以，具体这种溶液的配比是多少比多少？用擦洗的方法还是浸泡？要处理多长时间？谢谢各位！
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1楼 2013-04-27 22:03:36
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11lywang

新虫 (初入文坛)
引用回帖:
3楼: Originally posted by aza3year1019 at 2013-04-28 16:00:04
http://muchong.com/bbs/viewthread.php?tid=1902836
RCA标准清洗法是1965年由Kern和Puotinen 等人在N.J.Princeton的RCA实验室首创的，并由此而得名。RCA是一种典型的、至今仍为最普遍使用的湿式化学清洗法，该清洗法 ...

这个我在其他地方也看到过，但是我的目的只是要去除硅片表面的自然氧化层，我是不是可以只用HF来达到目的，还有，只用HF来去除表面氧化层的话，需要处理多长时间？谢谢！
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4楼2013-04-28 21:45:13
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alienpig

木虫 (正式写手)

【答案】应助回帖

★
感谢参与，应助指数 +1
314977903: 金币+1, 感谢参与应助~ 2013-04-28 07:58:59
对硅不是很熟的人抛块砖引个玉。
一般不是先用强氧化剂（比如H2O2）去除有机物，然后是HF/BHF去native oxide？最后DI water rinse， N2 gun。
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2楼2013-04-28 05:53:15
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aza3year1019

金虫 (正式写手)

【答案】应助回帖

★
感谢参与，应助指数 +1
hwweven: 金币+1, 感谢参与应助 2013-04-28 22:58:01
http://muchong.com/bbs/viewthread.php?tid=1902836
RCA标准清洗法是1965年由Kern和Puotinen 等人在N.J.Princeton的RCA实验室首创的，并由此而得名。RCA是一种典型的、至今仍为最普遍使用的湿式化学清洗法，该清洗法主要包括以下几种清洗液。
（1）SPM：H2SO4 /H2O2 120～150℃ SPM具有很高的氧化能力，可将金属氧化后溶于清洗液中，并能把有机物氧化生成CO 2和H2O。用SPM清洗硅片可去除硅片表面的重有机沾污和部分金属，但是当有机物沾污特别严重时会使有机物碳化而难以去除。
（2）HF(DHF)：HF(DHF) 20～25℃ DHF可以去除硅片表面的自然氧化膜，因此，附着在自然氧化膜上的金属将被溶解到清洗液中，同时DHF抑制了氧化膜的形成。因此可以很容易地去除硅片表面的Al，Fe，Zn，Ni等金属，DHF也可以去除附着在自然氧化膜上的金属氢氧化物。用DHF清洗时，在自然氧化膜被腐蚀掉时，硅片表面的硅几乎不被腐蚀。
（3）APM (SC-1）：NH4OH/H2O2 /H2O 30～80℃ 由于H2O2的作用，硅片表面有一层自然氧化膜(SiO2)，呈亲水性，硅片表面和粒子之间可被清洗液浸透。由于硅片表面的自然氧化层与硅片表面的Si被NH 4OH腐蚀，因此附着在硅片表面的颗粒便落入清洗液中，从而达到去除粒子的目的。在 NH4OH腐蚀硅片表面的同时，H2O 2又在氧化硅片表面形成新的氧化膜。
（4）HPM (SC-2)：HCl/H2O2/H2 O 65～85℃ 用于去除硅片表面的钠、铁、镁等金属沾污。在室温下HPM就能除去Fe和Zn。
清洗的一般思路是首先去除硅片表面的有机沾污，因为有机物会遮盖部分硅片表面，从而使氧化膜和与之相关的沾污难以去除；然后溶解氧化膜，因为氧化层是“沾污陷阱”，也会引入外延缺陷；最后再去除颗粒、金属等沾污，同时使硅片表面钝化
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3楼2013-04-28 16:00:04
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yswyx

专家顾问 (著名写手)

【答案】应助回帖

★ ★ ★ ★ ★ ★ ★
314977903: 金币+2, 应助指数+1, 专家考核, 感谢专家参与应助(^o^)/~ 2013-05-07 17:33:23
11lywang(314977903代发): 金币+5, 感谢参与应助！ 2013-09-23 17:37:27
引用回帖:
4楼: Originally posted by 11lywang at 2013-04-28 21:45:13
这个我在其他地方也看到过，但是我的目的只是要去除硅片表面的自然氧化层，我是不是可以只用HF来达到目的，还有，只用HF来去除表面氧化层的话，需要处理多长时间？谢谢！...

非常快！原生氧化层，瞬间的事儿，保守10秒内肯定搞定了。你可以用BOE，浓度低，反应平缓。
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5楼2013-05-07 11:47:02
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