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[求助]
磁控溅射镀不上去膜!!
本人用的是沈科仪的JGP450磁控溅射设备。直流溅射,起辉正常,气压在1pa左右,时间0.5h,氩气流量30sccm。镀的是ZrCu合金靶。靶材每次都用角磨机处理表面。靶基距大概在9cm。做SEM,基本上很少一点才会镀上去!另外求教哪个是阳极?是基片还是靶罩。
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[ Last edited by cstt2007 on 2013-4-9 at 17:41 ] |
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