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磁控溅射镀不上去膜！！
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本人用的是沈科仪的JGP450磁控溅射设备。直流溅射，起辉正常，气压在1pa左右，时间0.5h，氩气流量30sccm。镀的是ZrCu合金靶。靶材每次都用角磨机处理表面。靶基距大概在9cm。做SEM，基本上很少一点才会镀上去！另外求教哪个是阳极？是基片还是靶罩。 3#_m001.JPG [ Last edited by cstt2007 on 2013-4-9 at 17:41 ] |
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690069175
金虫 (正式写手)
头儿
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- 专业: 半导体材料
11楼2013-10-23 16:48:00
感谢参与，应助指数 +1
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