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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 微米和纳米 » 综合其他 » 单晶硅片表面粗糙度一般是多少？
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ledlau

木虫 (著名写手)

[求助] 单晶硅片表面粗糙度一般是多少？

大家好，
   本人对硅片一些参数不太了解，现在做实验需要知道硅片的粗糙度参数。
想请问一下大家：一般单抛或者未抛硅片来说，未抛光侧的表面粗糙度大概是多少呢？
（有朋友了解或者亲自测试过的麻烦告知一声，万分感谢！！）
（抛光一侧的一般都有标示出来，＜0.5nm）
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1楼 2013-04-03 10:25:57
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yswyx

专家顾问 (著名写手)

【答案】应助回帖

引用回帖:
3楼: Originally posted by ledlau at 2013-04-17 09:19:17
谢谢你的回帖

第二行中的10um以下是不是笔误啊？ 是10nm吗？
AFM要钱啊，，...

非抛光的面很粗的，10nm是不可能的。一般来说，镜面是0.4um就算是镜面了，硅片背面是接近镜面但不是镜面的状态，一般来说是大于1um的粗糙度，但是绝不会超过10um的。
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4楼2013-04-17 11:51:57
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yswyx

专家顾问 (著名写手)

【答案】应助回帖

★ ★ ★
感谢参与，应助指数 +1
ledlau: 金币+3, ★★★很有帮助, 谢谢大哥的应助！ 2013-04-17 15:10:08
如果是国产硅片，抛光面的次凹面粗糙度绝大部分是达不到Ra<0.5nm的，能<1nm就不错了。
未抛光一侧很难说，有些做过背封，有些没有，有些粗一些，有些细一些。不同厂家的片子差别很大。不过一般都是在10um以下的水平。

既然是做实验要用，自己用AFM拉一下吧。片子的种类和厂家太多，有实际数据才是最好的。
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2楼2013-04-03 18:50:12
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ledlau

木虫 (著名写手)
引用回帖:
2楼: Originally posted by yswyx at 2013-04-03 18:50:12
如果是国产硅片，抛光面的次凹面粗糙度绝大部分是达不到Ra<0.5nm的，能<1nm就不错了。
未抛光一侧很难说，有些做过背封，有些没有，有些粗一些，有些细一些。不同厂家的片子差别很大。不过一般都是在10um以下 ...

谢谢你的回帖

第二行中的10um以下是不是笔误啊？ 是10nm吗？
AFM要钱啊，，
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辛勤耕耘，收获知识，收获美好人生
3楼2013-04-17 09:19:17
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ledlau

木虫 (著名写手)
引用回帖:
4楼: Originally posted by yswyx at 2013-04-17 11:51:57
非抛光的面很粗的，10nm是不可能的。一般来说，镜面是0.4um就算是镜面了，硅片背面是接近镜面但不是镜面的状态，一般来说是大于1um的粗糙度，但是绝不会超过10um的。...


你肯定记错了吧
我是机械背景的，普通机加工精铣都可以达到Ra＜3.2um的表面粗糙度，更不用说经过磨削之后的表面了

据我查看小木虫其它帖子，硅片抛光面如果是你说的0.4nm以下倒是比较可信的；粗面(未抛光侧)10nm左右也还有一定可能性。
但绝对绝对不会到um量级的
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5楼2013-04-17 14:53:14
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