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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 功能材料 » 设计与制备 » 磁控溅射中的双靶共溅射，如何通过调整两个靶材的溅射功率控制掺杂量？
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HHBWF

禁虫 (小有名气)
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1楼2013-03-01 21:09:09
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yshit

木虫 (小有名气)
引用回帖:
12楼: Originally posted by HHBWF at 2013-03-08 15:07:47
哥们 那你对这方面有没有什么心得呢？我要用两个金属靶溅射，其中一个用直流 另一个用射频 但是对于这个掺杂量的控制实在是难以把握 目前也在探索 不知你有没有什么好的方法 我们交流交流？...

双靶反应磁控共溅射中，参数对结果的影响真是差之毫厘谬以千里，太折腾人了，现在还没得出好的结果，正在摸索中。
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秋天到了
14楼2013-03-09 10:40:20
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wangyong832

银虫 (著名写手)

【答案】应助回帖

★
感谢参与，应助指数 +1
nofrunolif: 金币+1, 鼓励交流 2013-03-03 01:22:06
你另外一个靶材是多晶靶材？
个人觉得你这个要经过系统的探索，比如两个靶材的功率，两个靶材距离衬底的距离等等，
  要是你是用多晶靶材去溅射倒不是很困难，要是两个金属靶材反应溅射那工作量就相当大了
赞一下 回复此楼
2楼2013-03-02 01:31:03
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HHBWF

禁虫 (小有名气)
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3楼2013-03-02 10:58:45
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HHBWF

禁虫 (小有名气)
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4楼2013-03-02 14:26:46
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