磁控溅射、电子束蒸镀制备金属薄膜Au,Ag,Al,Cu,Cr,Fe,Mo,Ni,非金属薄膜Al2O3,AZO,ITO,Si,SiO2,Si3N4,ZnO;IBE、RIE、WE刻蚀加工
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foxs2

木虫 (文坛精英)

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内容

我室为专门的薄膜制备与刻蚀加工实验室,拥有多台大型磁控溅射、电子束蒸镀、LPCVD设备。
      其中,可镀Mo、Au、Ag、Al、Cu、Cr、Ni等金属薄膜和Si、SiO2、Si3N4、Al2O3、ZnO等非金属薄膜,厚度一般在15~500nm。1.1毫米玻璃片、硅片基底我方可提供,若选其他基底请自备。
      可提供RIE、IBE、WE等全套刻蚀加工服务,刻蚀各种金属、非金属图形结构。

赵工  壹伍壹零捌贰玖玖捌壹陆       zyy44138172@126.com

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