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497485668

铜虫 (初入文坛)

[求助] 二氧化硅纳米微球修饰氨基求助已有1人参与

各位请帮帮忙：本人想在二氧化硅微球外表面修饰上氨基，想请教一下：先修饰羟基，再修饰氨基，可以吗？就是修饰好羟基以后，利用APTES来修饰氨基，但是总觉得没有修饰上去，大家给点建议的！非常感谢！！！！
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1楼2013-01-09 19:08:24
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liuwei7898

银虫 (初入文坛)
引用回帖:
11楼: Originally posted by 分析2010 at 2013-03-05 21:30:54
我是在室温下搅拌的，比较过通N2和不通N2两种情况，N含量都小于0.3（本人为220nm磁球，包10nm硅）。但Zeta-potential都是正的。相差不大……

N含量是做的元素分析吗？0.3好像有点低，不能再提高吗？
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12楼2013-06-04 09:38:39
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分析2010

铁虫 (正式写手)

【答案】应助回帖

感谢参与，应助指数 +1
不用修饰羟基，只要将二氧化硅微球活化下，表面就能暴露出大量的羟基，然后再键合-NH2，给你一篇文献，参考下吧。J. Ge, Q. Zhang, T. Zhang, Y. Yin, Angew. Chem. Int. Ed. 2008, 47,8924.
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2楼2013-01-11 16:31:45
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分析2010

铁虫 (正式写手)

【答案】应助回帖

不用修饰羟基，只要将二氧化硅微球活化下，表面就能暴露出大量的羟基，然后再键合-NH2，给你一篇文献，参考下吧。J. Ge, Q. Zhang, T. Zhang, Y. Yin, Angew. Chem. Int. Ed. 2008, 47,8924.
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3楼2013-01-11 16:35:37
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497485668

铜虫 (初入文坛)
引用回帖:
3楼: Originally posted by 分析2010 at 2013-01-11 16:35:37
不用修饰羟基，只要将二氧化硅微球活化下，表面就能暴露出大量的羟基，然后再键合-NH2，给你一篇文献，参考下吧。J. Ge, Q. Zhang, T. Zhang, Y. Yin, Angew. Chem. Int. Ed. 2008, 47,8924.

您能不能直接将文献发给我呢？非常感谢！
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4楼2013-01-11 18:51:18
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