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gusiyong木虫 (小有名气)
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在背散射状态下为什么看不到二氧化硅层？
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制备了一高温抗氧化涂层材料，材料样品进行氧化性能测试后镶样抛光看涂层的截面形貌，可确定涂层表面形成的是致密的SiO2层，而在截面形貌观察过程中，采用背散射和二次电子相对同一区域进行观察，发现在二次电子模式下可清楚看到SiO2层，但背散射状态下却无法观察到，请问各位其原因是什么？ 上传了两张图片，分别是同一区域下的二次电子和背散射图片。  二次电子模式图片.jpg  背散射模式图片.jpg |
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