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阻尼菜鸟新虫 (初入文坛)
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关于蒙脱土的XRD图谱的分析
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所用原料蒙脱土的本征峰在4度左右，对应晶面间距是2.3nm 我用不同工艺使聚合物插层蒙脱土后再测试，分别出现两种情况： 1.在3度左右（3.2nm）出峰，右面没出现明显的二级衍射峰； 2.在3度左右（3.2nm）出峰，在5度左右(1.6nm)出现明显的二级衍射峰。 我的问题就是，为什么工艺不同会导致二级衍射峰或有或无？ 二级衍射峰的出现与晶体内部哪些因素有关？ 非常感谢 |
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stonewilliam
新虫 (初入文坛)
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感谢参与，应助指数 +1
ant_512: 金币+1, 奖励新虫！ 2012-12-30 07:48:04
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ant_512: 金币+1, 奖励新虫！ 2012-12-30 07:48:04
| 衍射峰强度的表达式可分为6大部分的6种影响因素：第1部分是物理常数，不属于影响因素；第2部分为实验参数，列为第一个影响因素的原子散射因子f就与实验参数有关，在第三部分中出现。第3部分是与样品晶体结构有关的参数。其中多重性因子P和结构因子F(hkl)是第2、第3个影响因素；第4部分是与布拉格角（掠射角）θ有关的角因子，它由两个因子合并而成：洛伦兹（Lorentz）因子和偏振因子合并而成，现在统称为洛伦兹偏振因子，用LP表示，LP=[1+cos^2(2θ)]/[2sin(2θ)]。第5部分是导致X射线强度衰减的吸收困子，它也是一个影响因素；第6部分是为修正原子热振动影响的温度因子 e^(-2M)。 |
3楼2012-12-29 23:46:43
nkcm
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