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催化达人

金虫 (著名写手)

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专业: 催化化学

[求助] 晶面暴露与催化剂的可还原性（H2-TPR）之间的联系

小硕做了不同形貌Mn2O3，其XRD完全相同,TPR不尽相同。敢问是不是由于形貌不同导致晶面暴露程度不同，优势晶面暴露多的催化剂TPR峰靠前？

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Just do it，done is better than perfect

1楼 2012-12-13 10:42:47

已阅回复此楼关注TA 给TA发消息送TA红花 TA的回帖

dailun20

木虫 (正式写手)

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★ ★ ★
pzypdl: 金币+3, 谢谢耐心回帖交流！ 2013-01-07 10:20:40

引用回帖:

25楼: Originally posted by yp_03 at 2013-01-05 13:14:54
透射电镜图片只是析某一个小区域的晶面间距，能代表所有材料暴露的晶面？例如某个晶面的暴露率非常低，用TEM表征的时候，我只要花时间仔细找，总能找到所需的晶面，但是这不能代表所测材料大量暴露这个晶面了吧！
...

不会的。。首先你得对你的材料很熟悉，一般来说，晶体的生长是有规律的，它会沿着某个晶轴定向生长，例如会朝着001的方向生长，是不会造成微区暴露的，这样才符合晶体的生长习性。。我感觉你说的也有可能，那种应该是材料的缺陷~或者是刚好那个东西没长好。
最后，你还得结合材料的性能，例如两个材料的性能有很大区别，然后你再考虑是否由于晶面暴露的不同造成的，这个也只是其中的一个影响因素.