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2012离子注入英文书《Ion Implantation》
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Ion Implantation Edited by Mark Goorsky, ISBN 978-953-51-0634-0, Hard cover, 436 pages, Publisher: InTech, Published: May 30, 2012 Ion implantation presents a continuously evolving technology. While the benefits of ion implantation are well recognized for many commercial endeavors, there have been recent developments in this field. Improvements in equipment, understanding of beam-solid interactions, applications to new materials, improved characterization techniques, and more recent developments to use implantation for nanostructure formation point to new directions for ion implantation and are presented in this book.  2318.jpg  未命名44.jpg [ 来自科研家族 寂寞大虫家族 ] |
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本内容由用户自主发布，如果其内容涉及到知识产权问题，其责任在于用户本人，如对版权有异议，请联系邮箱：xiaomuchong@tal.com - 附件 1 : Ion_Implantation.pdf
2012-11-12 16:24:23, 35.62 M
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