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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 微米和纳米 » 学术交流 » 弱问：合成介孔硅材料时表面活性剂模版如何抽取去除？
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sunalotus

银虫 (小有名气)

[求助] 弱问：合成介孔硅材料时表面活性剂模版如何抽取去除？

弱问：合成介孔硅材料时使用的表面活性剂最后如何去除抽取掉？煅烧吗？那里面与Si相连的其它有机基团不也被烧掉了？
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1楼 2012-11-08 19:00:47
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xzb328

木虫 (知名作家)
持续关注中.......
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xinruzhishui
3楼2012-11-08 19:11:45
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xudongyu1102

金虫 (小有名气)

【答案】应助回帖

感谢参与，应助指数 +1
低温溶剂回流，洗掉

比如用CTAB做多孔氧化硅就用丙酮60度回流
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2楼2012-11-08 19:09:50
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温心若水

版主 (职业作家)

【答案】应助回帖

感谢参与，应助指数 +1
溶剂萃取可行，含有有机官能团的一般都用有机溶剂：乙醇萃取
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4楼2012-11-08 20:43:02
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Miranda6276

木虫 (正式写手)

【答案】应助回帖

感谢参与，应助指数 +1
如果是CTAB的话可以再NH4NO3的乙醇溶液中60度2小时除去，这个方法可以有效防止纳米颗粒团聚
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5楼2012-11-09 07:52:00
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