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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 材料综合 » 科研生活 » 做EDS时W峰和Si峰重合的问题
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葵花点穴手h

银虫 (小有名气)

[求助] 做EDS时W峰和Si峰重合的问题

基体中有W，涂层上应该有Si，但是做EDS打点时只能出现W峰，Si加不上含量，但是做面扫面能有Si出现，而且分布规律与W一致，是不是用EDS不能很好区分W和Si呀，这样含量是不是就不准了呢
图是打得几个点

100-10000t1p1.jpg



200-10000t1p1.jpg



250-2-1000t2p2.jpg



250-2-1000t2p3.jpg
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做学术是一件严谨的事
1楼 2012-09-18 09:50:09
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葵花点穴手h

银虫 (小有名气)
引用回帖:
2楼: Originally posted by cuijunjun at 2012-09-18 10:00:09
准，根据你的目的不同，定性分析给出面分布，定量分析给出图谱

W峰大约为多少呀，我做的有1.9多的也有1.7多的，有的这两个位置同时出现，有的只有一个位置有峰
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做学术是一件严谨的事
3楼2012-09-19 21:22:58
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cuijunjun

禁虫 (著名写手)
感谢参与，应助指数 +1
本帖内容被屏蔽
2楼2012-09-18 10:00:09
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葵花点穴手h

银虫 (小有名气)
引用回帖:
2楼: Originally posted by cuijunjun at 2012-09-18 10:00:09
准，根据你的目的不同，定性分析给出面分布，定量分析给出图谱

还有就是Si峰大约多少呢
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做学术是一件严谨的事
4楼2012-09-19 21:23:38
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对面的小伙

铜虫 (初入文坛)

【答案】应助回帖

W和Si的两个系的峰是很接近的，你可以多做几个峰。另外，你最好做一下背散。
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5楼2012-10-12 10:48:17
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