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ncepuchen

银虫 (正式写手)

[求助] 氧化铝----陶瓷和单晶---磁控溅射

哪位大侠能够系统的介绍一下氧化铝?主要是它的形态。
磁控溅射中,用陶瓷的好,还是用单晶的好,陶瓷的可能会出现断裂,两者的镀膜质量和镀出来的氧化铝膜形态一样吗?
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知识的价值在于为创造想象,为我所用
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bazhuayuyu

木虫 (著名写手)

【答案】应助回帖

★ ★ ★
ncepuchen: 金币+3, ★★★★★最佳答案, 很专业 2012-09-12 21:30:28
引用回帖:
7楼: Originally posted by ncepuchen at 2012-09-11 23:27:54
请问氧化铝陶瓷对电源要求高,是指要用射频电源对吧?铝靶反应溅射,怎样能精确的控制O的含量呢,是不是一边镀铝一边氧化?...

氧化铝陶瓷不导电,是要用RF的,如果是铝靶反应溅射,其实是可以认为是陶瓷靶与金属靶之间的过渡模式,过程说起来是比较复杂的,一方面O离子也会像Ar离子一样参与轰击铝靶,一方面铝靶表面部分被氧化。溅射出来的Al原子和扩散到衬底上的O通过吸附和迁移最终结合起来,基本上不能控制O含量,但也不至于会偏离化学剂量比很多
8楼2012-09-12 00:21:11
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bazhuayuyu

木虫 (著名写手)

【答案】应助回帖

★ ★
感谢参与,应助指数 +1
ncepuchen: 金币+2, ★★★★★最佳答案 2012-09-07 14:48:18
氧化铝的形态?不清楚你要问什么
磁控溅射做氧化铝膜没有单晶靶,一般都是铝靶反应溅射,氧化铝陶瓷做靶材对电源要求比较高,两者镀膜质量一般来说陶瓷的好,但沉积速率慢,设备靶材都贵一些,铝靶控制上要求高,控制得好薄膜质量与陶瓷靶没什么差别,两种方法沉积的氧化铝都有非晶成分,需要退火改善

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2楼2012-09-07 13:08:06
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wu1008

金虫 (著名写手)

氧化铝单晶作溅射靶材?lz有钱人!
3楼2012-09-07 14:38:12
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ncepuchen

银虫 (正式写手)

引用回帖:
2楼: Originally posted by bazhuayuyu at 2012-09-07 13:08:06
氧化铝的形态?不清楚你要问什么
磁控溅射做氧化铝膜没有单晶靶,一般都是铝靶反应溅射,氧化铝陶瓷做靶材对电源要求比较高,两者镀膜质量一般来说陶瓷的好,但沉积速率慢,设备靶材都贵一些,铝靶控制上要求高,控 ...

主要是想用Al2O3来做衬底,并在上面镀Fe的催化剂颗粒,Al2O3能起到良好的限制Fe颗粒的粒径,所以想知道磁控溅射做的Al2O3最表面是什么形貌,铝空气中自然氧化也会形成Al2O3膜,用热蒸发镀铝之后再退火处理也会得到Al2O3膜,所以想知道它们的不同?
知识的价值在于为创造想象,为我所用
4楼2012-09-07 14:55:22
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