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直流磁控溅射NiFe合金靶材厚度应为多少啊?
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aitudou
铁虫
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专业: 半导体晶体与薄膜材料
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直流磁控溅射NiFe合金靶材厚度应为多少啊?
NiFe靶厚度3mm直径100mm,用射频源能起辉但辉光很弱,改用直流源却不能正常起辉,是什么原因啊?
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1楼
2012-08-03 16:45:46
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mosleo
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虫号: 130005
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性别: GG
专业: 无机非金属类光电信息与功
你采用的是铁磁性靶,靶材的厚度和设备的磁场强度直接关系您的溅射产额。如果您的设备磁场设计没有特殊要求,这么大的靶材,厚度要薄些。一般3mm左右没有问题,如果还不行,设备的磁场要考虑下。
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5楼
2012-08-28 19:20:31
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wbcui
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专业: 金属功能材料
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nofrunolif: 金币+1, 感谢交流,你的专业这么独特?
2012-08-04 20:10:26
aitudou: 金币+10,
★★★
很有帮助, 1mm的可以用了
2012-08-12 16:16:35
一个可能是厚度太厚
另一个,可能是你们电极的磁体比较弱,磁体与靶材表面的距离比较大
可以试试2mm或者1.5厚
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3楼
2012-08-04 15:49:55
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aitudou
铁虫
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注册: 2011-07-18
专业: 半导体晶体与薄膜材料
引用回帖:
3楼
:
Originally posted by
wbcui
at 2012-08-04 15:49:55
一个可能是厚度太厚
另一个,可能是你们电极的磁体比较弱,磁体与靶材表面的距离比较大
可以试试2mm或者1.5厚
嗯,有可能是厚度太厚了的,只有先试试薄一点的了,但愿可以用。
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4楼
2012-08-04 16:54:26
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alwayslove
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虫号: 1901183
注册: 2012-07-19
专业: 金属功能材料
应该是太厚的原因,我们也是溅射NiFe,可能也是磁场太弱,只有1.1mm厚的能起辉,其他的厚一点的都起不了辉。
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6楼
2013-06-06 09:45:11
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