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aitudou

铁虫 (初入文坛)

[求助] 直流磁控溅射NiFe合金靶材厚度应为多少啊?

NiFe靶厚度3mm直径100mm,用射频源能起辉但辉光很弱,改用直流源却不能正常起辉,是什么原因啊?
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wbcui

至尊木虫 (知名作家)

【答案】应助回帖

★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★
感谢参与,应助指数 +1
nofrunolif: 金币+1, 感谢交流,你的专业这么独特? 2012-08-04 20:10:26
aitudou: 金币+10, ★★★很有帮助, 1mm的可以用了 2012-08-12 16:16:35
一个可能是厚度太厚
另一个,可能是你们电极的磁体比较弱,磁体与靶材表面的距离比较大

可以试试2mm或者1.5厚
3楼2012-08-04 15:49:55
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aitudou

铁虫 (初入文坛)

引用回帖:
3楼: Originally posted by wbcui at 2012-08-04 15:49:55
一个可能是厚度太厚
另一个,可能是你们电极的磁体比较弱,磁体与靶材表面的距离比较大

可以试试2mm或者1.5厚

嗯,有可能是厚度太厚了的,只有先试试薄一点的了,但愿可以用。
4楼2012-08-04 16:54:26
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mosleo

捐助贵宾 (小有名气)


你采用的是铁磁性靶,靶材的厚度和设备的磁场强度直接关系您的溅射产额。如果您的设备磁场设计没有特殊要求,这么大的靶材,厚度要薄些。一般3mm左右没有问题,如果还不行,设备的磁场要考虑下。
5楼2012-08-28 19:20:31
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alwayslove

银虫 (小有名气)

应该是太厚的原因,我们也是溅射NiFe,可能也是磁场太弱,只有1.1mm厚的能起辉,其他的厚一点的都起不了辉。
6楼2013-06-06 09:45:11
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