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liuyuexue

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[求助] 薄膜的生长问题

为什么用磁控溅射长的纳米薄膜，有的长成柱状，有的是层状，比如，面心立方的Ag是层状，体心立方的V是柱状的，Ag的功率是100W沉积速率20nm每分，V是200w,沉积速率4nm每分，可是跟功率好像没关系，因为Ag的功率是20、40、60 w 的时候也是层状，V的功率是40、60、140 w的时候也是柱状，难道跟晶体结构有关还是其他的，各位高人，帮帮忙想想啊

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tomorrowisanotherday

1楼2012-06-25 18:55:27

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liuyuexue

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引用回帖:

10楼: Originally posted by wu1008 at 2012-07-14 22:05:07
很难说沉积越快越易呈岛状/柱状生长，这跟分子在基片上移动的势垒有关

面心的容易长成层状，这个就更加是武断的推论。要比较两种材料的生长模式是很困难的，除非你有大量的不同材料的观察结果，就凭Ag跟V下这样 ...

那怎样知道势垒的大小呢，还有是不是原子的熔点与基片温度的比值越高，或者说原子熔点越高，他沉积到基片上的表面迁移越低，几乎原子都停留在他们与基片第一次接触的位置，这样容易长成岛状，相反，熔点低，便面扩散厉害，容易长成层状。