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关于硅片表面疏水性处理的问题，20金币，谢谢指点已有1人参与
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从spi购买的silicon wafer希望通过处理能够实现疏水性表面。查文献知道一般是通过两步实现，首先通过浓硫酸+双氧水处理，除掉表面氧化层，并且引入羟基，第二步通过硅烷偶联试剂（含烷基链）浸泡较短时间即可得到疏水性表面。比如二氯硅烷。 我已经能够通过第一步实现亲水性硅表面，接触角10左右。第二步能否给一个比较详细的步骤介绍，越详细越好，非常感谢。如果有用会另有金币赠送，借来的账号，送50金币吧。因为文献中说的比较简单，但是有人说需要注意防水，反应时间影响也很大。 问题 1 最常用的硅烷偶联试剂有哪些，需要接触角80左右，并且容易操作，最好有 2 一般文献中讲需要将硅片在硅烷偶联试剂中浸泡，需要浸泡多少时间，浓度是多少？常用的溶剂是什么？ 非常感谢！ |
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