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xiaoben0826

新虫 (正式写手)

[求助] 如何去除AAO模板

我现在做的是利用AAO模板生长磁性钴纳米点,要想去测这些纳米点的性质就必须去除掉AAO模板,但还得保护这些纳米不受伤害,请问各位有什么好的建议???
我查过一些资料,氧化铝是两性氧化物,与酸碱都反应的;而钴是两性金属,和酸碱也是反应的。我现在想找到一种混合溶液,能腐蚀氧化铝模板,但又保护钴点不受伤害,就像用铬酸和磷酸混合溶液去除一次氧化的模板时,磷酸可以腐蚀氧化铝模板,但由于铬酸的保护作用,铝片不会受到腐蚀一样,请问各位有没有做过类似的研究的,给些建议???
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xiaoben0826

新虫 (正式写手)

引用回帖:
2楼: Originally posted by xz_mouse at 2012-06-12 19:08:24
楼主说的铬酸和磷酸混合溶液去除氧化铝模版能做到去掉氧化铝但是不腐蚀铝?我刚好要做这块能问下楼主这个溶液的配比是怎么样的呢?

1.8g of CrO3 + 7.1g of 85% H3PO4 + Dl-water fill up to 100ml
我们做实验腐蚀Al2O3时一般都是45度,腐蚀时间根据你做出来的Al2O3的厚度决定。
3楼2012-06-13 17:57:11
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xz_mouse

铁杆木虫 (正式写手)

楼主说的铬酸和磷酸混合溶液去除氧化铝模版能做到去掉氧化铝但是不腐蚀铝?我刚好要做这块能问下楼主这个溶液的配比是怎么样的呢?
2楼2012-06-12 19:08:24
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xiaoben0826

新虫 (正式写手)

此问题已解决,这种配比的溶液同样也保护钴不受伤害的。
4楼2012-06-13 18:03:21
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[ 发自手机版 http://muchong.com/3g ]
5楼2013-04-23 23:47:29
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