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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 微米和纳米 » 微纳加工 » 目前的光刻技术（含NGL）主流工艺是什么？
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明光

木虫 (著名写手)

[交流] 目前的光刻技术（含NGL）主流工艺是什么？ 已有3人参与

极紫外？193i？还是其他的？还是以极紫外和193i为主流，其他技术辅助？

求指点！！！！！
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心平气和，谦虚谨慎，创新上进！
1楼 2012-04-30 09:57:58
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yangguang53

金虫 (小有名气)
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那要看你的工艺要求，不同的工艺有不同的做法
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3楼2012-05-02 07:55:05
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microsensor

木虫 (小有名气)
★
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Electronic beam lithgraphoto
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2楼2012-05-02 02:20:53
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zeusshang

金虫 (小有名气)
★
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工业上当然是193啦，十年内估计都是193的天下。不过193也有很多种。
EUV全世界也只有三四个地方真正能做工艺，目前还难于看到大规模应用的曙光，最近intel的表态10nm以下节点可能会用，不过可能性不大。EBL比较普遍，很多地方都有，不过以实验用居多，或者用来制版。
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微纳加工
4楼2012-05-03 17:14:31
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